簡(jiǎn)化大樣本檢查工作流程
MX63和MX63L顯微鏡系統(tǒng)被優(yōu)化用于高達(dá)300毫米、平板顯示器、電路板和其他大樣本的晶片的高質(zhì)量檢查。它們的模塊化設(shè)計(jì)使您可以選擇需要將系統(tǒng)定制到應(yīng)用程序中的組件。
這些符合人體工程學(xué)和用戶友好的顯微鏡有助于提高吞吐量，同時(shí)保持檢查人員舒適，而他們做他們的工作。結(jié)合奧林巴斯流圖像分析軟件，你的整個(gè)工作流程，從觀察到報(bào)告的創(chuàng)建，都可以簡(jiǎn)化。
前沿分析工具
MX63系列的多功能觀測(cè)能力提供清晰、清晰的圖像，因此用戶可以可靠地檢測(cè)樣品中的缺陷。奧林巴斯流圖像分析軟件中的新的照明技術(shù)和圖像采集選項(xiàng)給用戶更多的選擇來(lái)評(píng)估他們的樣本并記錄他們的發(fā)現(xiàn)。
無(wú)形變得可見(jiàn)：混合觀察與獲取
混合觀測(cè)技術(shù)通過(guò)將暗場(chǎng)與另一種觀測(cè)方法（如亮場(chǎng)、熒光或偏振）相結(jié)合，產(chǎn)生獨(dú)特的觀測(cè)圖像。混合觀察使用戶能夠查看常規(guī)顯微鏡難以看到的缺陷。用于暗視場(chǎng)觀測(cè)的圓形LED照明器具有方向暗場(chǎng)函數(shù)，其中在給定時(shí)間僅照射一個(gè)象限。這減少了樣品的光暈，并有助于可視化樣品的表面紋理。
半導(dǎo)體晶片的結(jié)構(gòu)
半導(dǎo)體晶片上的光刻膠殘留物
可選的晶片裝載機(jī)集成-AL120系統(tǒng)*
可選的晶片裝載機(jī)可以連接到MX63系列，以安全地將硅和化合物半導(dǎo)體晶片從盒式磁帶轉(zhuǎn)移到顯微鏡階段，而不使用鑷子或棒。著名的性能和可靠性，使安全，高效的正面和背面宏觀檢查，而裝載機(jī)有助于提高生產(chǎn)力的實(shí)驗(yàn)室。
MX63與Al120晶片裝載機(jī)結(jié)合（200毫米版本）
*E120在EMEA中不可用。
快速清潔檢查
MX63系列提供無(wú)污染晶片檢查。所有機(jī)動(dòng)部件均采用屏蔽結(jié)構(gòu)，并將抗靜電處理應(yīng)用于顯微鏡架、管、呼吸罩等部件。機(jī)動(dòng)鼻鼻翼的旋轉(zhuǎn)速度比手動(dòng)鼻翼的旋轉(zhuǎn)速度更快，更安全，減少檢查時(shí)間，同時(shí)保持操作者的手低于晶片，減少潛在的污染。
實(shí)現(xiàn)有效觀測(cè)的系統(tǒng)設(shè)計(jì)
由于內(nèi)置離合器和XY旋鈕的組合，XY級(jí)能夠同時(shí)進(jìn)行粗、細(xì)兩個(gè)階段的運(yùn)動(dòng)。該階段有助于觀測(cè)效率，即使對(duì)于大樣本，如300毫米晶片。
傾斜觀察管的廣泛范圍使操作者能夠以舒適的姿勢(shì)坐在顯微鏡下。
接受所有晶片尺寸
晶片夾持器和玻璃板
該系統(tǒng)與各種類型的150 - 200毫米和200 - 300毫米晶圓持有人和玻璃板。如果晶片的尺寸在生產(chǎn)線上改變，顯微鏡的框架可以以最小的成本進(jìn)行修改。隨著MX63系列，可以使用不同的階段來(lái)容納75毫米，100毫米，125毫米，和150毫米晶片上的檢查線。
直觀顯微鏡控制：舒適易用
顯微鏡的設(shè)置操作簡(jiǎn)單，便于用戶調(diào)整和重現(xiàn)系統(tǒng)設(shè)置。
快速找到焦點(diǎn)：焦點(diǎn)援助
在光路中插入聚焦輔助器件可以容易且精確地聚焦在低對(duì)比度樣品上，例如裸片。
左圖像：網(wǎng)格表示圖像離焦。中間圖像：網(wǎng)格輔助聚焦。右圖像：可以容易地獲得聚焦圖像。
人體工程學(xué)控制更快，更舒適的操作
改變目標(biāo)和調(diào)節(jié)光闌的控制裝置位于顯微鏡下，因此使用者在使用過(guò)程中不必松開(kāi)聚焦旋鈕或?qū)⑵漕^移開(kāi)目鏡。
通過(guò)光強(qiáng)度管理器和自動(dòng)孔徑控制進(jìn)行更快的觀察
在正常的顯微鏡下，每個(gè)觀察者需要調(diào)整光強(qiáng)度和光圈。MX63系列使用戶能夠?yàn)椴煌糯蟊稊?shù)和觀察方法設(shè)置光強(qiáng)和光圈條件。這些設(shè)置可以容易地被召回，幫助用戶節(jié)省時(shí)間并保持最佳圖像質(zhì)量。
光強(qiáng)度管理器
|  |
常規(guī)光強(qiáng)度 | 
改變放大倍數(shù)或觀察方法時(shí)，圖像變得太亮或暗淡。 |
光強(qiáng)度管理器 | 
當(dāng)改變放大倍數(shù)或觀測(cè)值時(shí)，自動(dòng)調(diào)整光強(qiáng)度以產(chǎn)生最佳圖像。 |
自動(dòng)孔徑控制
精密光學(xué)和數(shù)字成像質(zhì)量檢查
奧林巴斯發(fā)展高品質(zhì)光學(xué)和先進(jìn)的數(shù)字成像能力的歷史已經(jīng)證明了提供優(yōu)良測(cè)量精度的光學(xué)質(zhì)量和顯微鏡的記錄。
卓越的光學(xué)性能：波前像差控制
一致的色溫：高強(qiáng)度白光LED照明
MX63系列采用高強(qiáng)度白光LED光源，用于反射和透射照明。LED保持一致的色溫，而不管強(qiáng)度如何，以確保可靠的圖像質(zhì)量和顏色再現(xiàn)。LED系統(tǒng)提供了高效、長(zhǎng)壽命的照明材料，適用于材料科學(xué)應(yīng)用。
顏色隨光照強(qiáng)度而變化。
顏色與光強(qiáng)一致，比鹵素更清楚。
*使用自動(dòng)曝光拍攝的所有圖像
精密測(cè)量：自動(dòng)校準(zhǔn)
類似于數(shù)字顯微鏡，當(dāng)使用奧林巴斯流軟件時(shí)，自動(dòng)校準(zhǔn)是可用的。自動(dòng)校準(zhǔn)有助于消除校準(zhǔn)過(guò)程中的人為變異性，從而導(dǎo)致更可靠的測(cè)量。自動(dòng)校準(zhǔn)使用從多個(gè)測(cè)量點(diǎn)的平均值自動(dòng)計(jì)算正確校準(zhǔn)的算法。這最大限度地減少了不同運(yùn)營(yíng)商引入的差異，并保持一致的準(zhǔn)確性，提高了定期驗(yàn)證的可靠性。
完全清晰的圖像：圖像陰影校正
奧林巴斯流軟件的特征是陰影校正，以適應(yīng)圖像角上的陰影。當(dāng)與強(qiáng)度閾值設(shè)置一起使用時(shí)，陰影校正提供了更精確的分析。
半導(dǎo)體晶片（二值化圖像）
正確的圖像：陰影校正產(chǎn)生均勻的照明跨越視野。
完全可定制
MX63系列的目的是使客戶能夠選擇各種光學(xué)元件，以適應(yīng)個(gè)別檢查和應(yīng)用需求。該系統(tǒng)可以利用所有的觀測(cè)方法。用戶還可以從各種奧林巴斯流圖像分析軟件包中選擇，以滿足個(gè)人圖像采集和分析的需要。
兩個(gè)系統(tǒng)適應(yīng)不同的樣本大小
MX63系統(tǒng)可以容納高達(dá)200毫米的晶片，而MX63L系統(tǒng)可以處理與MX63系統(tǒng)相同的小足跡的高達(dá)300毫米的晶片。模塊化設(shè)計(jì)使您可以根據(jù)您的具體要求定制顯微鏡。
電影
（左：Brightfield /右邊：偏振光）
偏振光用來(lái)揭示物質(zhì)的質(zhì)地和晶體的狀態(tài)。它適用于晶片和LCD結(jié)構(gòu)的檢查。
一個(gè)硬盤(pán) （左/右：野：DIC）
微分干涉對(duì)比（DIC）是用來(lái)幫助視圖與小樣本分的差異。它是理想的大學(xué)inspections樣品具有很高的差異如分鐘的磁頭，硬磁盤(pán)媒體，和polished晶片。
半導(dǎo)體晶片上的IC圖形
（左：暗場(chǎng)/右：混合（布萊特菲爾德+暗場(chǎng)））
暗場(chǎng)用于檢測(cè)樣品上的微小劃痕或缺陷，或用鏡面（如晶片）檢測(cè)樣品。混合照明使用戶能夠查看模式和顏色。
半導(dǎo)體晶片上的光刻膠殘留物
（左：熒光/右邊：混合（熒光+暗視野）
熒光被用在用特殊設(shè)計(jì)的濾光器照明時(shí)發(fā)射光的樣品中。這是用來(lái)檢測(cè)污染和光致抗蝕劑殘留物。混合照明能夠觀察光致抗蝕劑殘留物和IC圖案。
液晶彩色濾光片（左：透射光/右：混合（透射光+亮場(chǎng)））
這種觀察技術(shù)適用于透明樣品，如LCD、塑料和玻璃材料。混合照明能夠觀察濾光片顏色和電路圖案。
半導(dǎo)體/FPD檢查顯微鏡解決方案MX63 技術(shù)規(guī)格
| MX63 | MX63L |
光學(xué)系統(tǒng) | UIS2光學(xué)系統(tǒng)（無(wú)限遠(yuǎn)校正） |
顯微鏡 機(jī)架 | 反射光照明 | LED燈、12V100W鹵素?zé)簟?00W水銀燈 照明方式：明場(chǎng)、暗場(chǎng) 內(nèi)置電動(dòng)孔徑光闌 觀察方式：明場(chǎng)、暗場(chǎng)、微分干涉（DIC）、簡(jiǎn)易偏振、熒光、紅外 |
透射光照明 | 透射光照明裝置: MX-TILLA or MX-TILLB - MX-TILLA:：孔徑光闌 NA0.5 - MX-TILLB：孔徑光闌 NA0.6 光源： LG-PS2 （鹵素?zé)?2/V100 W ） 觀察方式：明場(chǎng)，簡(jiǎn)單的偏振 |
對(duì)焦 | 行程：32 mm 每轉(zhuǎn)的微調(diào)行程：100 μm 最小刻度：1 μm 配有上限限位器，用于粗調(diào)手柄的扭力調(diào)節(jié) |
最大載重 （包括臺(tái)架） | 8 kg | 15 kg |
觀察筒 | 寬視野 （FN 22 mm） | 正像三目：U-ETR4 正像、傾斜式三目：U-TTR-2 倒像三目： U-TR30-2, U-TR30IR（紅外觀察） 倒像雙目： U-BI30-2 倒像、傾斜式雙目：U-TBI30 |
| 超寬視野 （FN 26.5 mm） | 正像、傾斜式三目: MX-SWETTR 分光比100%: 0 or 0 : 100%) 正像、傾斜式三目: U-SWETTR 分光比 100%: 0 or 20% : 80%) 倒像三目: U-SWTR-3 |
物鏡轉(zhuǎn)換器 | 明場(chǎng)六孔電動(dòng)轉(zhuǎn)換器帶 DIC插槽：U-D6REMC 明場(chǎng)五孔轉(zhuǎn)換器帶DIC自動(dòng)定心插槽：U-P5REMC 明暗場(chǎng)六孔電動(dòng)轉(zhuǎn)換器帶 DIC插槽：U-D6BDREMC 明暗場(chǎng)五孔轉(zhuǎn)換器帶DIC插槽： U-D5BDREMC 明暗場(chǎng)五孔轉(zhuǎn)換器帶DIC自動(dòng)定心插槽： U-P5BDREMC |
載物臺(tái) | 內(nèi)置離合器驅(qū)動(dòng)、同軸右手柄： MX-SIC8R ， 行程： 210 x 210 mm 透光區(qū)： 189 x 189 mm 內(nèi)置離合器驅(qū)動(dòng)、同軸右手柄： MX-SIC6R2 ， 行程：158 x 158 mm （反射光使用） | 內(nèi)置離合器驅(qū)動(dòng)、同軸右手柄：MX-SIC1412R2， 行程： 356 x 305 mm 透光區(qū)：356 x 284 mm |
重量 | 大約：35.6kg （顯微鏡機(jī)架26kg） | 大約：44kg （顯微鏡機(jī)架28.5kg） |
